tedExpandsManufacturingCapacityofDiamondWindowsforTRUMPFHighPowerCO2LasersinEUVLithography),世通社,2018年12月19日,步都需要创新。激光室中
特殊气体必须保持恒定密度。锡滴本身能够反射光,反射光有可能进入激光系统形成干扰。为
防止这种情况
出现,激光系统需要特殊
光学部件。通快需要工业钻石来提供激光离开腔室
“窗口”,必须与合作伙伴合作开发新
超纯钻石。通快花
十年时间来应对这些挑战,生产出
功率和可靠性都足够
激光器。每台光源需要整整457329个部件。
在西盟和通快找到种方法来轰击锡并使其发出足够强
EUV后,下
步是制作反射镜,收集光并将其指向硅芯片。制造世界上最先进光学系统
德国公司蔡司自珀金埃尔默和GCA成立以来,就为光刻系统制造反射镜和透镜。但过去使用
光学部件与EUV所需
光学部件之间
差异,大约与莱思罗普
灯泡和西盟
锡滴喷射系统之间
差异
样巨大。
C.蒙特卡姆(C.Montcalm),《极紫外线光刻多层反射涂层》(MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography),能源部科学技术信息办公室,1998年3月10日,
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