2015年，严涛南被问到，如果阿斯麦正在开发的新的EUV光刻机不起作用，会发生什么。在过去的25年里，严涛南一直致力于光刻技术的前沿研究。1991年，严涛南刚从麻省理工学院毕业便被TI聘用，在那里维修GCA在破产前生产的最后一台光刻机。20世纪90年代末，当使用193纳米波长光的深紫外（DUV）光刻机上线时，严涛南加入了台积电。近20年来，该行业一直依靠这些工具来制造越来越小的晶体管，使用一系列光学技巧，比如通过水或多层掩模的多次曝光，使193纳米的光波能够形成尺寸的一小部分，这些技巧让摩尔定律得以延续。因为芯片行业在20世纪90年代末通过对3DFinFET的早期研究已将晶体管从180纳米节点缩减。到2015年左右，这些研究成果已准备好进行大规模生产。
严涛南，《为大批量制造开发EUV光刻技术——个人旅程》（DevelopingEUVLithographyforHighVolumeManufacturing—APersonalJourney），《IEEE技术简报》（IEEETechnicalBriefs），
张忠谋在半导体行业对EUV光刻机下的赌注比其他任何人都大。台积电的光刻团队在EUV光刻机是否适合大规模生产的问题上存在分歧，但负责台积电研发的蒋尚义坚信，EUV光刻机是唯一的前进之路。说话温和的蒋尚义，因一流的制造技术而广受赞誉。蒋尚义出生于中国重庆，和张忠谋一样，他的家人在第二次世界大战期间逃离了日占区。蒋尚义在中国台湾长大，后来在斯坦福大学
